Phil Seidel
论文数
2
总引用数
9
H-Index
2
关于
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研究焦点
主要成就
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H 指数
2
论文
9
总引用数
5
篇均引用
🏆 最高被引论文
Status of EUV reticle handling solution in meeting 32 nm HP EUV lithography
5 次引用 · 2008
📈 最高产年份: 2008 (1 论文)
🤝 主要合作者: 5
🏛 所属机构: Semtech (Canada)
代表论文
- 1
- 2
主要合作者
尚未生成