Semtech (Canada)
🇨🇦 CA
论文数
1
总引用数
5
H-Index
1
研究人员
6
关于
暂无简介。
研究焦点
主要成就
1
H 指数
1
论文
5
总引用数
6
教职员与研究人员
🏆 最高被引论文
Status of EUV reticle handling solution in meeting 32 nm HP EUV lithography
5 次引用 · 2008
📊 篇均引用: 5
📈 最高产年份: 2008 (1)
🔬 研究焦点: Computer science, Engineering, Extreme ultraviolet, Extreme ultraviolet lithography, Interference lithography, Lithography
代表论文
- 1
教职员与研究人员
…
尚未生成