Shanghai Huali Microelectronics (China)
🇨🇳 CN
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教职员与研究人员
🏆 最高被引论文
Investigation and Reduction of Systematic Defects by Wafer Backside Process in Nanometer Semiconductor Manufacturing
1 次引用 · 2020
📊 篇均引用: 1
📈 最高产年份: 2020 (1)
🔬 研究焦点: Composite material, Etching (microfabrication), Layer (electronics), Lithography, Materials science, Nanometre
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教职员与研究人员
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